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国家知识产权局信息显示，中晟半导体（上海）有限公司申请一项名为“反应腔清洁装置及方法”的专利，公开号CN121042311A，申请日期为2025年10月。
专利摘要显示，本申请提供一种反应腔清洁装置及方法，涉及半导体外延材料制备技术领域。装置包括：气体传输结构、光源组件、排出结构和控制器；气体传输结构设置在待清洁设备的反应腔的腔盖上，光源组件设置在反应腔的侧面腔壁上，排出结构与反应腔连接；控制器通信连接气体传输结构、光源组件以及和排出结构；控制器用于控制气体传输结构、光源组件和排出结构的工作状态；气体传输结构用于将清洁源气体、载气和反应气体通入反应腔内；光源组件用于向反应腔内发送催化光线；其中，催化光线用于与清洁源气体协同作用生成目标自由基，目标自由基与反应腔内的沉积物结合产生反应物；排出结构用于排出反应物。
天眼查资料显示，中晟半导体（上海）有限公司，成立于2021年，位于上海市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本15000万人民币。通过天眼查大数据分析，中晟半导体（上海）有限公司参与招投标项目2次，专利信息17条，此外企业还拥有行政许可33个。
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